熱噴涂的工藝方法有很多種，其中應用較廣泛的方法有火焰噴涂、電弧噴涂、等離子噴涂（APS）、爆炸噴涂，近年來又發(fā)展了超音速噴涂（HVOF）技術。等離子體是一個廣義的概念。自然界除了固、液、氣3種物質(zhì)形態(tài)外,還存在物質(zhì)的第4態(tài)—等離子體。等離子噴涂技術中所敘述的等離子體是指氣體經(jīng)過壓縮電弧后形成的高溫等離子體,亦稱熱等離子體。

等離子噴涂的主要類型如下：

大氣等離子噴涂是用氬氣、氮氣、氫氣作為離子氣,經(jīng)電離產(chǎn)生等離子高溫射流,將輸入的材料熔化或熔融噴射到工作表面形成涂層的方法。主要用于制備金屬陶瓷、金屬和陶瓷涂層。

可控氣氛等離子噴涂是將等離子噴槍置于密封艙室內(nèi),由機械手進行操作。將艙室抽至真空狀態(tài)即為真空等離子噴涂（VPS），艙室為低壓狀態(tài)時稱為低壓真空等離子噴涂（LPPS），艙室的氣氛也可以為惰性氣氛或其它保護氣氛。這種工藝擴大了熱噴涂在沉積金剛石膜、超導體氧化物涂層方面的應用。

液穩(wěn)等離子噴涂方法噴槍采用水、乙醇、甲醇作為穩(wěn)定液體,相應的產(chǎn)生氧化、中性或還原性的等離子體。由于這種噴涂方法的功率很大,所以特別適合噴涂高熔點的陶瓷材料。水穩(wěn)等離子技術現(xiàn)已投入大規(guī)模的產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn),在美國、日本、法國、德國、捷克和俄羅斯都得到了廣泛的應用。

反應等離子噴涂工藝是一種獨特的利用等離子體的化學過程制造復合材料、陶瓷、金屬間化合物等材料的涂層方法,如TiAl和MoSi2—SiC 等。這種方法的研究剛剛開始,不久將用于生產(chǎn)。

總而言之，等離子噴涂的涂層質(zhì)量不僅取決于噴涂設備和噴涂材料的質(zhì)量,更重要的是取決于所采用的噴涂工藝。合理選擇等離子噴涂工藝是確保涂層質(zhì)量的重要措施之一。

                                                                                             參考文獻：熱噴涂系列綜述之一:等離子噴涂（何洪泉，王峰，張?zhí)m）